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三星被判侵犯FinFET工艺专利:罚款4亿美元

根据美国德克萨斯州联邦法院的裁决,三星电子侵犯了一家韩国大学关于双栅极FinFET半导体工艺的技术专利,必须赔偿4亿美元。

快科技 2018/06/20 17:35 FinFET工艺专利 罚款 三星